物質の三態（固、液、気）に対し第四態として定義され分子原子が電離もしくは中性ラジカルとなっている状態をプラズマ状態という。この状態は非常に高い反応性を有し分子原子が自ら発光している状態にあり自然界では太陽、雷、オーロラなどが例として挙げられる。

【当社製品一例構造】

平行平板タイプ

バレルタイプ

異方性プラズマを広い面積に均一に発生させることが出来る。
プリント基板、LCD基板等の処理に適している。

等方性プラズマを円筒型処理室内に発生させることが出来る。
電子部品、金型、医療器具等の洗浄、滅菌に適している。

【応用例】

• 有機物除去（洗浄）
  ガラス、金属表面、プラスチック等の表面濡れ性の向上ができる。また医療機器の洗浄、滅菌にも適している。
• 表面改質
  ガラス、金属表面、プラスチック等の表面濡れ性の向上ができる。
• 微細加工（Ething）
  Ｓｉ、Ｔａ、Ｔｉ等の金属酸化膜、ナイトライド膜パターニング（微細加工）できる。
• 金属表面の還元
  還元ガスプラズマにより金属表面の還元処理ができる。

【技術の優位性（対WET処理）】

• 低ランニングコスト
  処理ガスと電力、Ａｉｒ、冷却水のみで使用できるため薬品類の使用が必要無くそれに伴う廃液も出ない。
• クリ−ン
  クリーンルームで使用できる技術。
• 微細
  分子原子レベルでの反応が起りＷｅｔでは対応出来ないミクロンレベルの隙間の洗浄や加工が行える。
• 後処理不要
  ドライ処理のため処理後の洗浄、乾燥工程が不要。